酸化拡散炉は、太陽電池製造の重要なプロセス装置です。 微量のホウ素、リン、その他の元素を高温でシリコンウェーハ上に混合および拡散させて PN 接合を準備し、そこから集積回路を構成します。 また、シリコンウェーハの表面に SiOx 膜を形成してウェーハを保護するために使用することもできます。

酸化プロセスを実行する拡散炉の内部温度を制御するには、炉の内側部分と外側部分の両方を測定する熱電対を使用するのが一般的です。 指定された各温度ゾーンには外側と内側の熱電対があり、測定結果の信頼性を確保します。 内側の熱電対はウェーハ温度の測定に使用され、通常 3 ～ 9 つの測定点があり、ウェーハ温度を正確に表します。 外側の熱電対は炉管の外面を感知するために使用され、通常、各熱電対には 1 対のワイヤのみがあり、炉の間接的な測定を行います。 通常、酸化プロセスの温度は拡散プロセスよりも低いため、K および N タイプのメイン多点 BF 熱電対を使用できます。

技術的パラメータ	メイン多点BF熱電対
	内部
タイプ	K,N
ワイヤまたは MIMS の直径	φ2~4
作業温度(度)	0~950
精度(度)	±1.5 または 0.4%·t
保護管長さ(mm)	4000以下
保護管径(mm)	φ14~22
保護チューブ材質	310Sまたは321
ホットエンド構é€	絶縁
ポイント数	3～9点
終了	小型コネクタ
補償線	KX(NX){{0}}}×0.5FPF
構造の特徴	分解が簡単で、必要に応じて任意のポイントのT/Cを取り外すことができます。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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